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脉冲高能量密度等离子体法制备TiN薄膜及其摩擦磨损性能研究

刘元富 张谷令 王久丽 刘赤子 杨思泽

脉冲高能量密度等离子体法制备TiN薄膜及其摩擦磨损性能研究

刘元富, 张谷令, 王久丽, 刘赤子, 杨思泽
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出版历程
  • 收稿日期:  2003-05-13
  • 修回日期:  2003-05-23
  • 刊出日期:  2004-01-05

脉冲高能量密度等离子体法制备TiN薄膜及其摩擦磨损性能研究

  • 1. 中国科学院物理研究所,北京 100080
    基金项目: 

    国家“863”计划(批准号:2002A331020)和国家自然科学基金(批准号:10275088)资助的课题.

摘要: 利用脉冲高能量密度等离子体技术在室温条件下在45号钢基材上制备出了超硬耐磨TiN薄膜.利用XRD,XPS,AES,SEM等手段分析了薄膜的成分及显微组织结构,并测试了薄膜的硬度分布及摩擦磨损性能.结果表明:薄膜主要组成相为TiN,薄膜组织致密、均匀,与基材之间存在较宽的混合界面;薄膜硬度高,在干滑动磨损实验条件下具有优异的耐磨性及较低的摩擦系数.

English Abstract

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