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TiN/SiC纳米多层膜的生长结构与力学性能

劳技军 孔 明 张惠娟 李戈扬

TiN/SiC纳米多层膜的生长结构与力学性能

劳技军, 孔 明, 张惠娟, 李戈扬
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出版历程
  • 收稿日期:  2003-07-27
  • 修回日期:  2003-09-18
  • 刊出日期:  2004-03-05

TiN/SiC纳米多层膜的生长结构与力学性能

  • 1. 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室;上海 200030
    基金项目: 

    上海市纳米技术专项基金(批准号:0352nm084)资助的课题.

摘要: 研究了TiN/SiC纳米多层膜中立方SiC(B1cubic SiC)的形成及其对TiN/SiC多层膜力学性能的影响.结果表明:在TiN/SiC多层膜中,非晶态的SiC层在厚度小于0.6nm时形成立方结构并与TiN形成共格外延生长的超晶格柱状晶,使多层膜产生硬度和弹性模量显著升高的超硬效应,最高硬度超过60GPa.SiC随着层厚的增加转变为非晶相,从而阻止了多层膜的共格外延生长,使薄膜呈现TiN纳米晶和SiC非晶组成的层状结构特征,同时多层膜的硬度和弹性模量下降.TiN/SiC纳米多层膜产生的超硬效应与立方

English Abstract

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