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掺杂金刚石薄膜的缺陷研究

胡晓君 李荣斌 沈荷生 何贤昶 邓 文 罗里熊

掺杂金刚石薄膜的缺陷研究

胡晓君, 李荣斌, 沈荷生, 何贤昶, 邓 文, 罗里熊
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出版历程
  • 收稿日期:  2003-06-13
  • 修回日期:  2003-09-24
  • 刊出日期:  2004-06-15

掺杂金刚石薄膜的缺陷研究

  • 1. 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室;上海 200030
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:50082005)资助的课题.

摘要: 利用多普勒增宽谱和电子顺磁共振研究了掺硼和掺硫金刚石薄膜的缺陷状态.多普勒增宽谱的结果表明,不同杂质元素掺杂的金刚石薄膜,其中使正电子湮没的缺陷种类是相同的;正电子与不同杂质元素硼、硫之间的相互作用不明显;少量硼可使金刚石膜中的空位浓度减少.EPR结果表明,各掺杂样品的顺磁信号主要来自于金刚石的碳悬键.

English Abstract

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