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由汽态还原生长金属须的机制

葛庭燧 万耀光

由汽态还原生长金属须的机制

葛庭燧, 万耀光
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出版历程
  • 收稿日期:  1961-05-15
  • 刊出日期:  2005-08-06

由汽态还原生长金属须的机制

  • 1. 中国科学院

摘要: 进行了用蒸汽还原法生长铜须和铁须的实验。研究了须的生长机制,为的是找出能够生出又粗又长而强度又极高的金属须的有效措施。实验指出,当生长槽材料的晶体结构与生长须的金属的晶体结构相同时,可以促进须的生长。由此所得的结论是,须的生长是通过沿轴线的螺型位错的机制。观测了所生的铜须和铁须在生长槽上的分布和排列取向的各种方式,由此推论到这些须是由顶端生长的。此外,实验还指出,氯化亚铜(或亚铁)蒸汽是优先在须的顶端还原的,这可能是由于螺型位错在须顶端所产生的表面台阶对于这种还原有一种催化作用。观测了直径50—120微米的大铜须的生长情况,发现了片状生长、堆垛生长和层状生长。这种特殊生长方式可能与一维和二维成核生长的交互更迭发生有关。讨论了通过适当选择和控制生长条件和方式的途径来获得基本上不含位错的大块晶体的可能性。

English Abstract

参考文献 (1)

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