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Monte Carlo模拟计算应用于微区薄膜厚度测定

何延才 黄月鸿 孙荆 陈裕三

Monte Carlo模拟计算应用于微区薄膜厚度测定

何延才, 黄月鸿, 孙荆, 陈裕三
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出版历程
  • 收稿日期:  1981-01-12
  • 刊出日期:  2005-07-27

Monte Carlo模拟计算应用于微区薄膜厚度测定

  • 1. (1)中国科学院上海硅酸盐研究所; (2)中国科学院上海冶金研究所

摘要: 本文用Monte Carlo模拟计算了孤立薄膜和同一材料厚样中同样厚度表层的X射线强度分布函数,然后提出一简单关系式确定有衬底薄膜的X射线出射强度,以校正膜厚测定中Z.A.P.影响,使膜厚测定的准确度比前人有所提高。对GaAS,Si衬底上的Ta2O5膜、ZrO2膜的测厚结果与椭圆术测定结果一致。

English Abstract

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