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氩气掺入对类金刚石沉积过程的影响

詹如娟 黄卫东 邹祖平 王燕霞 项志遴 高克林

氩气掺入对类金刚石沉积过程的影响

詹如娟, 黄卫东, 邹祖平, 王燕霞, 项志遴, 高克林
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出版历程
  • 收稿日期:  1991-03-25
  • 刊出日期:  2005-07-03

氩气掺入对类金刚石沉积过程的影响

  • 1. (1)中国科学技术大学近代物理系,结构分析开放研究实验室,合肥,230026; (2)中国科学技术大学近代物理系,结构分析开放研究实验室,合肥,230026;中国科学院武汉物理研究所,武汉,430071

摘要: 在电子助进化学气相沉积(EACVD)类金刚石薄膜中,使用和比较CH4/H2与CH4/H2/Ar两种体系,用静电探针测量这两种体系的电子温度、电子密度,结果表明,在CH4/H2/Ar体系中,电子密度较高,使成膜的速率增加。

English Abstract

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