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非晶Nd-Fe薄膜电阻的温度效应与非晶稳定性

吕曼祺 A. WAGENDRISTEL

非晶Nd-Fe薄膜电阻的温度效应与非晶稳定性

吕曼祺, A. WAGENDRISTEL
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出版历程
  • 收稿日期:  1992-08-03
  • 刊出日期:  2005-07-10

非晶Nd-Fe薄膜电阻的温度效应与非晶稳定性

  • 1. (1)快凝非平衡合金国家重点实验室中国科学院国际材料物理中心,沈阳110015; (2)维也纳技术大学应用物理研究所,A-1040 Vienna

摘要: 用闪光蒸镀法在77K制备了NdxFe1-x(x=0.06-0.80)非晶薄膜,原位测定了其电阻随温度的变化。结果表明:在0.192和ρ(T)∝T。晶化不是在一个固定的温度,而是在一个温度区间发生。

English Abstract

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