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重掺硼快速退火分子束外延硅的X射线衍射研究

许强 王建宝 袁健 陆昉 孙恒慧

重掺硼快速退火分子束外延硅的X射线衍射研究

许强, 王建宝, 袁健, 陆昉, 孙恒慧
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出版历程
  • 收稿日期:  1994-02-07
  • 刊出日期:  1995-03-20

重掺硼快速退火分子束外延硅的X射线衍射研究

  • 1. 复旦大学李政道物理学综合实验室,上海200433
    基金项目: 

    国家自然科学基金

    国家科学技术委员会基础研究

    应用基础研究重大项目资助的课题

摘要: 利用X射线双晶衍射,测量了经过800—1100℃快速退火处理的重掺硼的分子束外延硅中的应变情况,发现应变部分弛豫.并得出外延层与衬底硅的晶格失配与替位硼浓度(7.5×10~(29)—3.1×10~(20)cm~(-3)成正比,比例系数β为5.1.在此测量基础上,提出硼团簇的形成与分解是外延展晶格质量与电学性质变化的主要原因.

English Abstract

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