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微波等离子体化学汽相沉积法沉积CNx膜的研究

辛 煜 范叔平 狄国庆 沈明荣 甘肇强

微波等离子体化学汽相沉积法沉积CNx膜的研究

辛 煜, 范叔平, 狄国庆, 沈明荣, 甘肇强
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出版历程
  • 收稿日期:  1997-03-31
  • 刊出日期:  1998-01-20

微波等离子体化学汽相沉积法沉积CNx膜的研究

  • 1. 苏州大学物理系,苏州 215006

摘要: 对用微波等离子体化学汽相沉积法沉积在Si基片上的CNx膜分别进行Raman散射、X射线光电子能谱、X射线衍射和扫描电子显微镜等技术的分析与测试. Raman散射的研究结果表明在CH4与N2的流量比低于1∶8时,CNx膜的散射谱中以非晶石墨峰的形式出现.当流量比为1∶8时,则表现为较尖锐的C≡N键(2190cm-1)的特征峰;从X射线光电子能谱的分析结果可以看出C,N成键的方式主要是C≡N键和C—N

English Abstract

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