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溅射制备的Co/V多层膜微观结构特征与铁磁共振研究

吴 静 杜 军 鹿 牧 赵晓宁 徐惠平 翟宏如 夏 慧 张庶元 张裕恒

溅射制备的Co/V多层膜微观结构特征与铁磁共振研究

吴 静, 杜 军, 鹿 牧, 赵晓宁, 徐惠平, 翟宏如, 夏 慧, 张庶元, 张裕恒
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出版历程
  • 收稿日期:  1998-01-24
  • 修回日期:  1998-05-13
  • 刊出日期:  1999-01-20

溅射制备的Co/V多层膜微观结构特征与铁磁共振研究

  • 1. (1)南京大学物理系,现代分析中心,固体微结构物理国家重点实验室,南京 210093; (2)冶金工业部有色金属研究总院,北京 100088; (3)中国科学技术大学结构分析中心,合肥 230026

摘要: 研究了用射频磁控溅射方法制备的[Co(1.5nm)/V(dV)]20(0.5nm≤dV≤4nm)多层膜的结构和磁性.用X射线衍射、透射电子显微镜、高分辨率透射电子显微镜等手段对其结构的分析,表明它们层状周期结构良好,沿膜的生长方向具有fcc Co(111)和bcc V(110)织构,且是由小的柱状晶粒构成的多晶薄膜.界面一定程度的合金化,使其成为成分调制周期结构,也是它们的一个结构特征.由其铁磁共振谱计算得到较小的g因子和4πMe

English Abstract

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