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用低能离子溅射剥层和高能离子背散射组合方法进行薄膜原位分析  

宗祥福 刘 波 姜 蕾 周筑颖 贺勉鸿 赵国庆

用低能离子溅射剥层和高能离子背散射组合方法进行薄膜原位分析  

宗祥福, 刘 波, 姜 蕾, 周筑颖, 贺勉鸿, 赵国庆
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出版历程
  • 刊出日期:  2000-01-20

用低能离子溅射剥层和高能离子背散射组合方法进行薄膜原位分析  

  • 1. (1)复旦大学材料科学系,国家微电子材料和元器件微分析中心,上海200433; (2)复旦大学现代物理研究所基于加速器的原子物理和原子核物理实验室,上海200433
    基金项目: 

    国家自然科学基金

摘要: 介绍了将离子枪组合于卢瑟福背散射分析靶室中构成Sputtering/RBS原位分析实验装置,用低能离子溅射剥层与高能离子背散射组合对薄膜样品进行成分和深埋层分析方法.给出了对样品分析的三个例子.对Au/Si样品的分析着重讨论了Au在Ar+溅射剥层时的溅射速率;对Si/GeSi/Si和WSix/SiO2/Si样品的深埋层分析,提高了样品分析的深度分辨率.讨论了这一Sputtering/RBS组合分析方法的优缺点和在薄膜材料研究中可能的应用

English Abstract

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