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XPS研究Nd表面氧化物的生长过程

物理学报, 2001, 50(1): 79-82.
DOI: 10.7498/aps.50.79
CSTR: 32037.14.aps.50.79

Acta Phys. Sin., 2001, 50(1): 79-82.
DOI: 10.7498/aps.50.79
CSTR: 32037.14.aps.50.79
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  • 摘要

    用X射线光电子能谱(XPS)研究新鲜Nd表面在不同氧气和空气进气量的情况下,表面氧化物的生长过程.发现氧化层由氧化物、氢氧化物及表面化学吸附水三种成分,这三种成分的增加与进气量都存在正比对数关系,氧化物和吸附水在一定进气量后趋于饱和,而氢氧化物持续不断增加,最终氢氧化物占据主要地位.

     

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