搜索

文章查询

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

射频溅射FeTaN纳米晶软磁薄膜结构和磁性

郑代顺 谢天 白建民 魏福林 杨正

射频溅射FeTaN纳米晶软磁薄膜结构和磁性

郑代顺, 谢天, 白建民, 魏福林, 杨正
PDF
导出引用
导出核心图
计量
  • 文章访问数:  2483
  • PDF下载量:  643
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2001-07-11
  • 修回日期:  2001-09-23
  • 刊出日期:  2002-04-20

射频溅射FeTaN纳米晶软磁薄膜结构和磁性

  • 1. 兰州大学磁性材料研究所,兰州730000

摘要: 用射频反应溅射制备了FeTaN纳米晶软磁薄膜.研究了薄膜结构和磁性与制备条件的依赖关系.研究发现,当Ta的含量较高时,在N2+Ar混合气氛中易形成沉积态薄膜的非晶结构.适当的热处理后,αFe纳米晶从中晶化生成.薄膜显示出优良的软磁特性

English Abstract

目录

    /

    返回文章
    返回