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Bi底层对FePt薄膜的影响

冯 春 李宝河 韩 刚 滕 蛟 姜 勇 刘泉林 于广华

Bi底层对FePt薄膜的影响

冯 春, 李宝河, 韩 刚, 滕 蛟, 姜 勇, 刘泉林, 于广华
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  • 利用磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了以Bi为底层的FePt薄膜,经不同温度真空热处理得到L10-FePt薄膜.研究了Bi做底层对FePt薄膜的有序化温度及矫顽力Hc的影响.实验结果表明:以Bi做底层的FePt薄膜在350℃实现低温有序,同时其Hc也有大幅度提高,并且可以在更大成分范围内获得Hc较高的L10-FePt薄膜.利用X射线光电子能谱研究了薄膜中Bi原子的分布情况,利用X射线衍射研究了薄膜的晶体学结构变化.结果表明,Bi底层在退火过程中的扩散促进了FePt薄膜有序度的升高.
    • 基金项目: 教育部博士点基金(批准号:2003008003)、教育部科学技术研究重点项目(批准号:104023)和教育部新世纪优秀人才支持计划(批准号:NCET-04-0104)资助的课题.
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出版历程
  • 收稿日期:  2006-04-29
  • 修回日期:  2006-08-07
  • 刊出日期:  2006-06-05

Bi底层对FePt薄膜的影响

  • 1. (1)北京科技大学材料物理与化学系,北京 100083; (2)北京科技大学材料物理与化学系,北京 100083;北京工商大学数理部,北京 100037
    基金项目: 

    教育部博士点基金(批准号:2003008003)、教育部科学技术研究重点项目(批准号:104023)和教育部新世纪优秀人才支持计划(批准号:NCET-04-0104)资助的课题.

摘要: 利用磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了以Bi为底层的FePt薄膜,经不同温度真空热处理得到L10-FePt薄膜.研究了Bi做底层对FePt薄膜的有序化温度及矫顽力Hc的影响.实验结果表明:以Bi做底层的FePt薄膜在350℃实现低温有序,同时其Hc也有大幅度提高,并且可以在更大成分范围内获得Hc较高的L10-FePt薄膜.利用X射线光电子能谱研究了薄膜中Bi原子的分布情况,利用X射线衍射研究了薄膜的晶体学结构变化.结果表明,Bi底层在退火过程中的扩散促进了FePt薄膜有序度的升高.

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