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样品电流模式下外磁场引起的X射线吸收谱强度变化

郭玉献 王 劼 李红红 徐彭寿 王 锋 闫文盛

样品电流模式下外磁场引起的X射线吸收谱强度变化

郭玉献, 王 劼, 李红红, 徐彭寿, 王 锋, 闫文盛
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  • 在用样品电流模式的测量过程中发现,磁场强度、磁场与样品表面的夹角以及光斑在样品表面的位置都会对吸收谱强度产生影响;在光斑、磁场和样品的不同几何配置下,测量并分析了表面均匀氧化的铝箔中氧的K边吸收谱,指出外磁场下吸收谱强度随各种条件变化的趋势,并对实验结果给出了合理解释;结果表明所用的模型分析与实验数据符合得很好;所得到的信息对于XMCD实验的设计安排、相应数据的分析以及物理信息的提取具有重要意义.
    • 基金项目: 国家大科学工程项目(批准号P2B07,P2C07),国家自然科学基金(批准号:10274073)资助的课题.
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出版历程
  • 收稿日期:  2005-12-12
  • 修回日期:  2006-01-17
  • 刊出日期:  2007-01-20

样品电流模式下外磁场引起的X射线吸收谱强度变化

  • 1. 中国科学技术大学国家同步辐射实验室,合肥 230029
    基金项目: 

    国家大科学工程项目(批准号P2B07,P2C07),国家自然科学基金(批准号:10274073)资助的课题.

摘要: 在用样品电流模式的测量过程中发现,磁场强度、磁场与样品表面的夹角以及光斑在样品表面的位置都会对吸收谱强度产生影响;在光斑、磁场和样品的不同几何配置下,测量并分析了表面均匀氧化的铝箔中氧的K边吸收谱,指出外磁场下吸收谱强度随各种条件变化的趋势,并对实验结果给出了合理解释;结果表明所用的模型分析与实验数据符合得很好;所得到的信息对于XMCD实验的设计安排、相应数据的分析以及物理信息的提取具有重要意义.

English Abstract

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