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全息光刻中的驻波效应研究

邱克强 刘正坤 徐向东 刘颖 洪义麟 付绍军

全息光刻中的驻波效应研究

邱克强, 刘正坤, 徐向东, 刘颖, 洪义麟, 付绍军
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  • 对光刻胶内光强分布进行了计算与模拟, 结果表明, 来自基底的反射光与入射光干涉, 光强在垂直基底的方向上呈现强弱周期性变化, 即驻波效应. 进一步的分析与实验结果表明, 随着基底反射率的增加, 驻波效应变得严重, 进而影响光栅掩模的槽形、占宽比并限制线条高度. 为减弱驻波效应的影响, 尝试了使用减反射膜降低基底反射光强度, 实验结果表明, 在基底与光刻胶之间增加一层减反射膜吸收来自基底的反射光强度, 减弱驻波效应的效果显著.
    • 基金项目: 国家自然科学基金(批准号: 10776030, 10875128)资助的课题.
    [1]

    Xu X D, Hong Y L, Fu S J 2004 Physics 33 340 (in Chinese) [徐向东, 洪义麟, 付绍军 2004 物理 33 340]

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    Zhu X L, Xie C Q Ye T C, Zhao M, Ma J, Jiang J, Niu J B, Liu M 2007 Proc. SPIE 6832 68320V1-6

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    Pelzer R, Lindner P, Glinsner T, Vratzov B, Gourgon C, Landis S, Kettner P, Schaefer C 2004 Equipment for Electronic Products Manufacturing 114 1

    [4]

    Xu X D 2001 Ph. D. Dissertation (Hefei: University of Science and Technology of China) (in Chinese) [徐向东 2001 博士学位论文(合肥: 中国科学技术大学)

    [5]

    Qiu K Q, Xu X D, Liu Y Hong Y L, Fu S J 2008 Acta Phys. Sin. 57 6329 (in Chinese) [邱克强, 徐向东, 刘颖, 洪义麟, 付绍军 2008 物理学报 57 6329]

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    Zhao J S, Li L F,Wu Z H 2004 Acta Opt. Sin. 24 1285 (in Chinese) [赵劲松, 李立峰, 吴振华 2004 光学学报 24 1285]

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    Mack C A 1986 Appl. Opt. 25 1958

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    Johnson L F 1978 App. Opt. 17 1165

    [9]

    Liu S J, Du J L, Xiao X, Tang X G, Peng Q J, Liu J L, Guo Y K 2004 Micronanoelectronic Technol. 2 41 (in Chinese) [刘世杰, 杜惊雷, 肖啸, 唐雄贵, 彭钦军, 刘建莉, 郭永康 2004 微纳电子技术 2 41]

    [10]

    Born M, Wolf E 1999 Principles of Optics (7th Ed.) (UK: Cambridge University Press) pp342–380

    [11]

    Weber M J 2003 Handbook of Optical Materials (US: CRC Press) pp328–329

    [12]

    Greer F, Van L, Fraser D, Coburn J W, Graves D B 2002 J. Vac. Sci. Tech. B 20 1901

    [13]

    Xu X D, Hong Y L, Fu S J 2003 Vac. Sci. Technol. 23 362 (in Chinese) [徐向东, 洪义麟, 付绍军 2003 真空科学技术 23 362]

    [14]

    Xiao X 2004 J. Leshan Teachers College 19 20 (in Chinese) [肖啸 2004 乐山师范学院学报 19 20]

  • [1]

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    Pelzer R, Lindner P, Glinsner T, Vratzov B, Gourgon C, Landis S, Kettner P, Schaefer C 2004 Equipment for Electronic Products Manufacturing 114 1

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    Xu X D 2001 Ph. D. Dissertation (Hefei: University of Science and Technology of China) (in Chinese) [徐向东 2001 博士学位论文(合肥: 中国科学技术大学)

    [5]

    Qiu K Q, Xu X D, Liu Y Hong Y L, Fu S J 2008 Acta Phys. Sin. 57 6329 (in Chinese) [邱克强, 徐向东, 刘颖, 洪义麟, 付绍军 2008 物理学报 57 6329]

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    Zhao J S, Li L F,Wu Z H 2004 Acta Opt. Sin. 24 1285 (in Chinese) [赵劲松, 李立峰, 吴振华 2004 光学学报 24 1285]

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    Mack C A 1986 Appl. Opt. 25 1958

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    Liu S J, Du J L, Xiao X, Tang X G, Peng Q J, Liu J L, Guo Y K 2004 Micronanoelectronic Technol. 2 41 (in Chinese) [刘世杰, 杜惊雷, 肖啸, 唐雄贵, 彭钦军, 刘建莉, 郭永康 2004 微纳电子技术 2 41]

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    Greer F, Van L, Fraser D, Coburn J W, Graves D B 2002 J. Vac. Sci. Tech. B 20 1901

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    Xu X D, Hong Y L, Fu S J 2003 Vac. Sci. Technol. 23 362 (in Chinese) [徐向东, 洪义麟, 付绍军 2003 真空科学技术 23 362]

    [14]

    Xiao X 2004 J. Leshan Teachers College 19 20 (in Chinese) [肖啸 2004 乐山师范学院学报 19 20]

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出版历程
  • 收稿日期:  2011-02-25
  • 修回日期:  2011-03-21
  • 刊出日期:  2012-01-05

全息光刻中的驻波效应研究

  • 1. 中国科学技术大学国家同步辐射实验室, 合肥 230029
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号: 10776030, 10875128)资助的课题.

摘要: 对光刻胶内光强分布进行了计算与模拟, 结果表明, 来自基底的反射光与入射光干涉, 光强在垂直基底的方向上呈现强弱周期性变化, 即驻波效应. 进一步的分析与实验结果表明, 随着基底反射率的增加, 驻波效应变得严重, 进而影响光栅掩模的槽形、占宽比并限制线条高度. 为减弱驻波效应的影响, 尝试了使用减反射膜降低基底反射光强度, 实验结果表明, 在基底与光刻胶之间增加一层减反射膜吸收来自基底的反射光强度, 减弱驻波效应的效果显著.

English Abstract

参考文献 (14)

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