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Ag缓冲层对ZnO:Al薄膜结构与光电性能的改善

程静云 康朝阳 宗海涛 曹国华 李明

Ag缓冲层对ZnO:Al薄膜结构与光电性能的改善

程静云, 康朝阳, 宗海涛, 曹国华, 李明
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  • 在室温条件下,采用射频磁控溅射法在玻璃基底上制备出了一系列高质量的AZO薄膜和不同Ag缓冲层厚度的AZO/Ag/AZO复合薄膜.利用X射线衍射和原子力显微镜分别对薄膜的物相和表面形貌进行了表征;利用霍尔效应测试仪和紫外-可见光分光光度计等实验技术对薄膜的光电性能进行了研究.实验结果表明,Ag缓冲层厚度对AZO薄膜的晶体结构和光电性能影响较大.当Ag层厚度为10 nm时,AZO(30 nm)/Ag(10 nm)/AZO(30 nm)薄膜拥有最优品质因子,为1.59 10-1-1,方块电阻为0.75/□,可见光区平均透过率为84.2%.另外,薄膜电阻随温度的变化趋势呈现金属电阻随温度的变化特性,光电热稳定性较好.
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出版历程
  • 收稿日期:  2016-06-26
  • 修回日期:  2016-09-19
  • 刊出日期:  2017-01-20

Ag缓冲层对ZnO:Al薄膜结构与光电性能的改善

    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:11140064,11304081,51301062)资助的课题.

摘要: 在室温条件下,采用射频磁控溅射法在玻璃基底上制备出了一系列高质量的AZO薄膜和不同Ag缓冲层厚度的AZO/Ag/AZO复合薄膜.利用X射线衍射和原子力显微镜分别对薄膜的物相和表面形貌进行了表征;利用霍尔效应测试仪和紫外-可见光分光光度计等实验技术对薄膜的光电性能进行了研究.实验结果表明,Ag缓冲层厚度对AZO薄膜的晶体结构和光电性能影响较大.当Ag层厚度为10 nm时,AZO(30 nm)/Ag(10 nm)/AZO(30 nm)薄膜拥有最优品质因子,为1.59 10-1-1,方块电阻为0.75/□,可见光区平均透过率为84.2%.另外,薄膜电阻随温度的变化趋势呈现金属电阻随温度的变化特性,光电热稳定性较好.

English Abstract

参考文献 (24)

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