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用XPS研究GD-a-SixC1-x:H膜中等离子体激元的特征

陈光华 张仿清 徐希翔

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用XPS研究GD-a-SixC1-x:H膜中等离子体激元的特征

陈光华, 张仿清, 徐希翔

BEHAVIOR OF PLASMONS IN GD-a-SixC1-x:H SAMPLES STUDIED BY XPS

Chen Guang-hua, Zhang Fang-qing, Xu Xi-xiang
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  • 对于GD-a-SixC1-x:H薄膜进行了XPS分析,得到了一些与Katayama相类似的结果。本文将给出GD-a-SixC1-x:H样品的价电子等离子激元(Plasmon)的频率ωp以及原子浓度(Nsi+NC+NH)随样品含碳量的变化,Si2p和C1s芯电子结合能随含碳量变化的化学移动,并对这些结果进行了初步的分析。
    XPS analyses of the GD-a-SixC1-x:H samples have been made, the results are similar to those of katayama. In this paper, the chemical shifts of Si2p and Cls levels, the observed valence-electron plasmon energy hωp and the atomic density of our samples with various alloy composition x are presented. The results are discussed preliminarily.
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出版历程
  • 收稿日期:  1982-07-16
  • 刊出日期:  1983-03-05

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