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高气压氯化氙准分子激光放电的稳定性

楼祺洪

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高气压氯化氙准分子激光放电的稳定性

楼祺洪

RESEARCH ON THE STABILITY OF THE HIGH PRESSURE DISCHARGE EXCITED XeCl EXCIMER LASER

LOU QI-HONG
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  • 高气压氯化氙准分子激光放电的稳定性与HCl的浓度有关。本文分析了放电等离子体的电子连续性方程,指出均匀放电的持续时间与HCl浓度平方根成反比。该结果与X射线预电离脉冲形成网络泵浦氯化氙激光的实验能很好地符合。
    The stability of the high pressure discharge excited XeCl excimer laser are related to the concentration of halogen donor HC1. In this paper, a theoretical analysis of the equation for continuity of the electrons in the discharge plasma predicate that the duration of the uniform phase should vary as the inverse square root of the HC1 concentration. This prediction is in good agreement with experimental results obtained from a X-ray pre-ionized PFN pumped XeC1 excimer laser.
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出版历程
  • 收稿日期:  1986-05-12
  • 刊出日期:  2005-03-20

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