Monte Carlo方法研究低能电子束曝光沉积能分布规律

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Monte Carlo方法研究低能电子束曝光沉积能分布规律

任黎明 , 陈宝钦 , 谭震宇

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Monte Carlo方法研究低能电子束曝光沉积能分布规律

任黎明, 陈宝钦, 谭震宇

物理学报, 2002, 51(3): 512-518.

doi: 10.7498/aps.51.512

Ren Li-Ming, Chen Bao-Qin, Tan Zhen-Yu

Acta Phys. Sin., 2002, 51(3): 512-518.

doi: 10.7498/aps.51.512

摘要
建立一个描述低能电子在多元多层介质中散射的物理模型,运用MonteCarlo方法模拟低能电子在靶体胶衬底中的复杂散射过程,在此基础上通过大量计算研究入射束能、胶层厚度、衬底材料等不同曝光条件对抗蚀剂沉积能密度分布的影响,获得沉积能分布规律:适量的低束能、薄胶层、低原子序数衬底可以使前散射电子对胶中沉积能密度分布的贡献增大、背散射电子的贡献减小,从而提高曝光分辨率.

关键词:
电子束曝光 /

MonteCarlo方法 /

低能电子散射 /

能量沉积
Abstract
Keywords:
/

/

/
作者及机构信息
任黎明²,

陈宝钦²,

谭震宇¹

(1)山东大学电气工程学院,济南250061; (2)中国科学院微电子中心,北京100029

基金项目: 国家“九五”科技攻关项目 (批准号 :97 76 2 0 3 0 2 );;国家重点基础研究项目 (批准号 :G2 0 0 0 0 36 5 0 4)资助的课题~
Authors and contacts
Ren Li-Ming²,

Chen Bao-Qin²,

Tan Zhen-Yu¹

(1)山东大学电气工程学院,济南250061; (2)中国科学院微电子中心,北京100029
参考文献

施引文献

目录

第51卷，第3期 - 2002年02月05日

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