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磷分子离子(P2+)注入硅的损伤行为

方子韦 林成鲁 邹世昌

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磷分子离子(P2+)注入硅的损伤行为

方子韦, 林成鲁, 邹世昌

A STUDY OF DAMAGE IN SILICON CREATED BY P2+ IMPLANTATION

FANG ZI-WEI, LIN CHENG-LU, ZOU SHI-CHANG
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出版历程
  • 收稿日期:  1987-12-29
  • 刊出日期:  2005-07-06

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