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150?快速热氮化SiO2膜的击穿特性

刘志宏 陈蒲生 刘百勇 郑耀宗

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150?快速热氮化SiO2膜的击穿特性

刘志宏, 陈蒲生, 刘百勇, 郑耀宗

BREAKDOWN CHARACTERISTICS OF RAPID THERMAL NITRIDED SiO2 FILM OF 150? THICKNESS

LIU ZHI-HONG, CHEN PU-SHENG, LIU BAI-YONG, CHENG YAO-ZONG
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出版历程
  • 收稿日期:  1990-03-19
  • 刊出日期:  2005-06-28

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