搜索

x
中国物理学会期刊
高级检索

研究半导体超晶格界面粗糙的X射线双晶Pendellosung方法

物理学报, 1995, 44(7): 1073-1080.
DOI: 10.7498/aps.44.1073
CSTR: 32037.14.aps.44.1073

Acta Phys. Sin., 1995, 44(7): 1073-1080.
DOI: 10.7498/aps.44.1073
CSTR: 32037.14.aps.44.1073
PDF
导出引用

  • 摘要

    运用高精度X射线双晶衍射议对GeSi/Si应变超晶格进行了分析研究,实验上观测到在卫星峰之间存在着干涉条纹(Pendellosung),建立了界面的随机概率模型.结合计算机模拟发现:Pendellosung条纹对界面的粗糙十分敏感,当界面粗糙度较小时,只影响Penderllosung条纹的规则排列,而当粗糙度较大时,不仅使Pendellosung条纹强度下降,规则排列受到破坏,并且还将导致高级卫星峰强度下降,峰形严重宽化.

     

    Abstract

      作者及机构信息

      Authors and contacts

      参考文献

    目录

    /

    返回文章
    返回