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高能重离子注入Si中缺陷的抑制

物理学报, 1995, 44(7): 1101-1107.
DOI: 10.7498/aps.44.1101
CSTR: 32037.14.aps.44.1101

Acta Phys. Sin., 1995, 44(7): 1101-1107.
DOI: 10.7498/aps.44.1101
CSTR: 32037.14.aps.44.1101
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    以文献10中作者系统研究离子注入Si中缺陷形成判据为基础,研究多种高能重离子的注入和退火行为,提出一种简便和有效抑制二次缺陷形成的新方法.

     

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