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Teflon AF/非线性光学聚合物驻极体双层膜的极化稳定性

物理学报, 1999, 48(9): 1676-1681.
DOI: 10.7498/aps.48.1676
CSTR: 32037.14.aps.48.1676

THE POLING STABILITY OF TEFLON AF/NON-LINEAR OPTICAL POLYMER ELECTRET DOUBLE-LAYER FILM

Acta Phys. Sin., 1999, 48(9): 1676-1681.
DOI: 10.7498/aps.48.1676
CSTR: 32037.14.aps.48.1676
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  • 摘要

    提出制备Teflon AF/非线性光学聚合物驻极体双层膜系统来提高主客体掺杂型非线性光学聚合物驻极体中偶极分子的有序取向稳定性的设想.样品用恒压电晕充电法极化，通过测量电光效应的等温衰减监测偶极子有序取向稳定性，用开路热刺激放电、等温表面电位衰减测量等手段分析了材料的电荷动态特性.结果表明双层膜系统中偶极分子有序取向稳定性明显优于单层非线性光学聚合物驻极体，其松弛规律可用KWW扩展指数函数来描述.

     

    Abstract

    The Teflon AF/NLO polymer electret double-layer system was presented in order to improve the stability of preferential dipole orientation in the NLO polymer electret layer. The polarization stability of the samples poled by constant voltage corona chargin

     

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