搜索

x
中国物理学会期刊
高级检索

用低能离子溅射剥层和高能离子背散射组合方法进行薄膜原位分析　　

物理学报, 2000, 49(1): 164-169.
DOI: 10.7498/aps.49.164
CSTR: 32037.14.aps.49.164

In Situ Analysis of High Energetic Ion RBS Combined with Low Energetic Ion Sputtering for Thin Films

Acta Phys. Sin., 2000, 49(1): 164-169.
DOI: 10.7498/aps.49.164
CSTR: 32037.14.aps.49.164
PDF
导出引用

  • 摘要

    介绍了将离子枪组合于卢瑟福背散射分析靶室中构成Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ／ＲＢＳ原位分析实验装置，用低能离子溅射剥层与高能离子背散射组合对薄膜样品进行成分和深埋层分析方法．给出了对样品分析的三个例子．对Ａｕ／Ｓｉ样品的分析着重讨论了Ａｕ在Ａｒ＋溅射剥层时的溅射速率；对Ｓｉ／ＧｅＳｉ／Ｓｉ和ＷＳｉｘ／ＳｉＯ２／Ｓｉ样品的深埋层分析，提高了样品分析的深度分辨率．讨论了这一Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ／ＲＢＳ组合分析方法的优缺点和在薄膜材料研究中可能的应用

     

    Abstract

      作者及机构信息

      Authors and contacts

      参考文献

    目录

    /

    返回文章
    返回