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类Ni-NdX射线激光靶表面氧化研究

物理学报, 2000, 49(3): 527-531.
DOI: 10.7498/aps.49.527
CSTR: 32037.14.aps.49.527

Acta Phys. Sin., 2000, 49(3): 527-531.
DOI: 10.7498/aps.49.527
CSTR: 32037.14.aps.49.527
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  • 摘要

    用磁控溅射镀膜法制备了Nd靶,研究了Nd靶在不同环境气氛下的氧化过程,并利用X射线光电子能谱、原子力显微镜对表面氧化物的化学态、表面形貌进行了分析和研究,得出Nd靶防氧化主要是防止表面的氢氧化这一结论

     

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