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a-C:F薄膜的热稳定性与光学带隙的关联

物理学报, 2002, 51(6): 1321-1325.
DOI: 10.7498/aps.51.1321
CSTR: 32037.14.aps.51.1321

Acta Phys. Sin., 2002, 51(6): 1321-1325.
DOI: 10.7498/aps.51.1321
CSTR: 32037.14.aps.51.1321
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  • 摘要

    以CF4和C6H6的混合气体作为气源,在微波电子回旋共振化学气相沉积(ECRCVD)装置中制备了氟化非晶碳薄膜(aC:F),并在N2气氛中作了退火处理以考察其热稳定性.通过傅里叶变换红外吸收谱和紫外可见光谱获得了薄膜中CC双键的相对含量和光学带隙,发现膜中CC键含量与光学带隙之间存在着密切的关联,在高微波功率下沉积的氟化非晶碳膜具有低的光学带隙和较好的热稳定性.

     

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