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中国物理学会期刊

AlGaAs∶Sn中DX中心电子俘获势垒的精细结构

CSTR: 32037.14.aps.51.138
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  • 采用定电容电压法,测量了n型Al026Ga074As∶Sn中DX中心电子热俘获瞬态,以及不同俘获时间后的电子热发射瞬态;并对瞬态数据进行数值Laplace变换,得到其Laplace缺陷谱(LDS).通过分析LDS谱,确定了电子热俘获和热发射LDS谱之间的对应关系,从而得到热俘获系数对温度依赖关系,以及与Sn相关的DX中心部分电子热俘获势垒的精细结构;通过第一原理赝势法计算表明,Sn附近的AlGa原子的不同配置是电子热俘获势垒精细结构产生的主要原因

     

    VoltagetransientsduetothethermalelectroncaptureandemissionofDXcentersinn typeSn dopedAl0 . 2 6 Ga0 .74Aswere measuredbytheconstantcapacitancetechniqueandtransformedbyLaplacedefectspectroscopy (LDS) .Byanalyzingthevariationsofdiscreteemissionrateswithdifferentcaptureperiods,correspondingrelationsbetweendiscretecaptureandemissionratesandcapturecoefficientsweredetermined .ThefinestructuresofelectroncapturebarriersoftheSn relatedDXcenterswereobtainedbylinearfittingthedataoftemperature dependencesofthecapturecoefficients.TheresultscalcuatedbyusingthefirstprinciplepseudopotentialmethodshowthatthefinestructuresofthecapturebarriersmainlycontributetoAl GaatdifferentlocalconfigurationsnearSnatomsduetothealloyrandomeffect.

     

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