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真空退火对氟化非晶碳薄膜结构的影响

物理学报, 2002, 51(6): 1383-1387.
DOI: 10.7498/aps.51.1383
CSTR: 32037.14.aps.51.1383

Acta Phys. Sin., 2002, 51(6): 1383-1387.
DOI: 10.7498/aps.51.1383
CSTR: 32037.14.aps.51.1383
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  • 摘要

    在苯(C6H6)和四氟化碳(CF4)混合气体中,用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积技术(ECRCVD)在不同功率下制备了氟化非晶碳膜(aC:F),为了检测膜的热稳定性对其进行了真空退火处理,测量了退火前后膜厚的变化率,并用傅里叶变换红外吸收光谱(FTIR)研究了其结构的变化.结果表明,膜厚变化率与沉积功率有关;400℃退火后低功率下沉积的膜的结构变化显著,高功率下沉积的膜则呈现了较好的热稳定性.

     

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