搜索

x
中国物理学会期刊

纳米GaSb-SiO2复合薄膜的非线性光学特性

CSTR: 32037.14.aps.51.183
CSTR: 32037.14.aps.51.183
PDF
导出引用
  • 利用射频磁控共溅射的方法制备出纳米GaSbSiO2镶嵌复合薄膜.用Cary5E分光光度计分析研究了复合薄膜的室温透射光吸收特性.用Z扫描方法测量了复合薄膜在6328nm处大的双光子吸收系数β≈0082mW,非线性折射率γ≈376×10-9m2W及非线性系数χ(3)≈784×10-9esu.

     

    NanocrystallineGaSbParticlesembeddedinSiO2 filmsweregrownbyradiofrequencymagnetronco sputtering .ThetransmissionabsorptionofthecompositefilmwasrecordedwithCary 5Espectrophotometeratroomtemperature.Thetwo photonopticalnonlinearitiesoftheGaSb SiO2 compositethinfilmsat63 2 .8nmweremeasuredbyZ scanmethod,andtheresultsare:twophotonabsorptioncoefficientβ≈ 0 . 0 82m W ,nonlinearrefractiveindexγ≈ 3 .76× 1 0 -9m2 Wandthenonlinearsusceptibilityχ(3 )≈ 7.84× 1 0 -9esu .

     

      Keywords:
    •  / 
    •  / 
    •  

    目录

    /

    返回文章
    返回