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Mo离子注入对金刚石涂层附着性能的影响

物理学报, 2002, 51(2): 347-350.
DOI: 10.7498/aps.51.347
CSTR: 32037.14.aps.51.347

Acta Phys. Sin., 2002, 51(2): 347-350.
DOI: 10.7498/aps.51.347
CSTR: 32037.14.aps.51.347
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    采用Mo离子注入工艺对YG6硬质合金基体表面进行处理,用微波等离子体CVD(MPCVD)法沉积金刚石涂层,研究了Mo离子注入工艺对金刚石涂层附着性能的影响.结果表明,Mo离子注入后,硬质合金基体表面的化学成分发生了明显变化;采用适当剂量的Mo离子注入基体,可使CVD金刚石涂层的附着性能显著提高.

     

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