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用SiCl4-H2低温沉积多晶硅薄膜微结构的Raman分析

物理学报, 2004, 53(5): 1558-1561.
DOI: 10.7498/aps.53.1558
CSTR: 32037.14.aps.53.1558

Raman analysis of microstructure of polycrystalline silicon films deposited at low-temperatures from SiCl4-H2

Acta Phys. Sin., 2004, 53(5): 1558-1561.
DOI: 10.7498/aps.53.1558
CSTR: 32037.14.aps.53.1558
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