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氧化钒薄膜微观结构的研究

物理学报, 2004, 53(6): 1956-1960.
DOI: 10.7498/aps.53.1956
CSTR: 32037.14.aps.53.1956

Microstructural features of DC sputtered vanadium oxide thin films

Acta Phys. Sin., 2004, 53(6): 1956-1960.
DOI: 10.7498/aps.53.1956
CSTR: 32037.14.aps.53.1956
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  • 摘要

    采用直流磁控反应溅射在Si(100)衬底上溅射得到(001)取向的V2O5薄膜.x射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)和傅里叶变换红外光谱(FTIR)的结果表明，氧分压影响薄膜的成分和生长取向，在氧分压0.4Pa时溅射得到(001)取向的纳米V2O5薄膜，即沿c轴垂直衬底方向取向生长的薄膜.V2O5薄膜经过真空退火得到(001)取向的VO2薄膜，晶体颗

     

    Abstract

    microstructure, thin films of vanadium oxides, preferred orientation, DC magnetron sputtering

     

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