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用椭圆偏光法研究硅中砷离子注入的损伤和退火效应

莫党 卢因诚 李旦晖 刘尚合 卢武星

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用椭圆偏光法研究硅中砷离子注入的损伤和退火效应

莫党, 卢因诚, 李旦晖, 刘尚合, 卢武星

ELLIPSOMETRIC STUDY OF DAMAGE AND ANNEALING IN ARSENIC ION IMPLANTED SILICON

MO DANG, LU YIN-CHENG, LI DAN-HUI, LIU SHANG-HE, LU WU-XING
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出版历程
  • 收稿日期:  1979-11-27
  • 刊出日期:  2005-07-29

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