搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

氧在硅表面上吸附的晶向关系

邢益荣 W. RANKE

引用本文:
Citation:

氧在硅表面上吸附的晶向关系

邢益荣, W. RANKE

ORIENTATION DEPENDENCE OF OXYGEN ADSORPTION ON SILICON SURFACES

XING YI-RONG, W. RANKE
PDF
导出引用
计量
  • 文章访问数:  5322
  • PDF下载量:  452
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  1985-01-14
  • 刊出日期:  2005-07-14

氧在硅表面上吸附的晶向关系

  • 1. (1)Fritz-Haber-Institut der Max-Planck-Gesellschaft,Faradayweg 4-6,D-1000 Berlin 33,West Germany; (2)中国科学院半导体研究所

摘要: 利用AES和同步辐射光电子谱,在圆柱状的Si单晶样品上研究了氧表面吸附的晶向关系。结果表明:在350K曝氧2L时,总吸附量的晶向关系比较弱,并可利用台阶的增强吸附来解释;随着曝氧量的增加(~10L),氧原子首先从(111)面进入体内,从而支持Si(111)-(7×7)再构是属于“缺陷”类模型的结论。

English Abstract

目录

    /

    返回文章
    返回