[1] |
王峰浩, 胡晓君. 氧离子注入微晶金刚石薄膜的微结构与光电性能研究. 物理学报,
2013, 62(15): 158101.
doi: 10.7498/aps.62.158101
|
[2] |
杨天勇, 孔春阳, 阮海波, 秦国平, 李万俊, 梁薇薇, 孟祥丹, 赵永红, 方亮, 崔玉亭. N离子注入富氧ZnO薄膜的p型导电及拉曼特性研究. 物理学报,
2013, 62(3): 037703.
doi: 10.7498/aps.62.037703
|
[3] |
丁芃, 刘发民, 杨新安, 李建奇. Co离子注入TiO2薄膜的显微结构和磁性研究. 物理学报,
2011, 60(3): 036803.
doi: 10.7498/aps.60.036803
|
[4] |
王茺, 杨宇, 杨瑞东, 李亮, 韦冬, 靳映霞, Bao Ji-Ming. 绝缘氧化层上自离子注入Si薄膜W线发光性能的调控. 物理学报,
2011, 60(10): 106104.
doi: 10.7498/aps.60.106104
|
[5] |
臧航, 王志光, 庞立龙, 魏孔芳, 姚存峰, 申铁龙, 孙建荣, 马艺准, 缑洁, 盛彦斌, 朱亚滨. 离子注入ZnO薄膜的拉曼光谱研究. 物理学报,
2010, 59(7): 4831-4836.
doi: 10.7498/aps.59.4831
|
[6] |
郝小鹏, 王宝义, 于润升, 魏 龙. 锆离子注入锆-4合金缺陷的慢正电子研究. 物理学报,
2007, 56(11): 6543-6546.
doi: 10.7498/aps.56.6543
|
[7] |
张谷令, 王久丽, 杨武保, 范松华, 刘赤子, 杨思泽. 内表面栅极等离子体源离子注入TiN薄膜及其特性研究. 物理学报,
2003, 52(9): 2213-2218.
doi: 10.7498/aps.52.2213
|
[8] |
刘成森, 王德真. 空心圆管端点附近等离子体源离子注入过程中鞘层的时空演化. 物理学报,
2003, 52(1): 109-114.
doi: 10.7498/aps.52.109
|
[9] |
李百贵. 氮离子注入纯铁中表面改性的穆斯堡尔谱研究. 物理学报,
2000, 49(3): 560-564.
doi: 10.7498/aps.49.560
|
[10] |
陈文智, 周少雄, 陈金昌. 铁基-铁镍基复合非晶态合金的磁性. 物理学报,
1999, 48(13): 193-199.
doi: 10.7498/aps.48.193.2
|
[11] |
邹云娟, 严 辉, 陈光华, 金运范, 杨 茹. C60薄膜的离子注入损伤研究. 物理学报,
1998, 47(11): 1923-1927.
doi: 10.7498/aps.47.1923
|
[12] |
张建华, 刘增山, 秦永志. Zn离子注入多晶Al的扩散研究. 物理学报,
1992, 41(9): 1474-1481.
doi: 10.7498/aps.41.1474
|
[13] |
李世普, 樊东辉, 王国梅, 邢宁, 任卫. Fe离子注入多晶Al2O3的光电子能谱研究. 物理学报,
1991, 40(6): 857-861.
doi: 10.7498/aps.40.857
|
[14] |
陈国明, 陈国樑, 杨絜, 邹世昌. 低能离子注入形成氮化硅薄膜特性的研究. 物理学报,
1988, 37(3): 475-480.
doi: 10.7498/aps.37.475
|
[15] |
张岳鲁, 华耜耘, 梅良模, 栾开政, 刘宜华. 硼离子注入多晶铁薄膜的非晶化作用的研究. 物理学报,
1988, 37(8): 1373-1375.
doi: 10.7498/aps.37.1373
|
[16] |
万虹, 戴道生, 方瑞宜, 刘尊孝. 非晶态合金Pr-Co薄膜的磁性. 物理学报,
1987, 36(10): 1371-1374.
doi: 10.7498/aps.36.1371
|
[17] |
詹文山, 沈保根, 赵见高, 陈金昌. Fe基非晶态合金的低温电阻研究. 物理学报,
1986, 35(5): 583-589.
doi: 10.7498/aps.35.583
|
[18] |
吴国安, N. COWLAM. 非晶态合金Co81.5B18.5结构的研究. 物理学报,
1985, 34(8): 1000-1008.
doi: 10.7498/aps.34.1000
|
[19] |
钱佑华, 陈良尧. 硅离子注入层的电场调制反射光谱. 物理学报,
1982, 31(5): 646-653.
doi: 10.7498/aps.31.646
|
[20] |
夏日源. 高剂量离子注入形成的非晶层重新结晶过程中杂质外扩散的物理模型. 物理学报,
1980, 29(5): 566-576.
doi: 10.7498/aps.29.566
|