[1] |
王海波, 罗震林, 刘清青, 靳常青, 高琛, 张丽. 共振X射线衍射研究高温超导Sr2CuO3.4晶体中的调制结构. 物理学报,
2019, 68(18): 187401.
doi: 10.7498/aps.68.20190494
|
[2] |
张金帅, 黄秋实, 蒋励, 齐润泽, 杨洋, 王风丽, 张众, 王占山. 低温退火的X射线W/Si多层膜应力和结构性能. 物理学报,
2016, 65(8): 086101.
doi: 10.7498/aps.65.086101
|
[3] |
李洪涛, 罗 毅, 席光义, 汪 莱, 江 洋, 赵 维, 韩彦军, 郝智彪, 孙长征. 基于X射线衍射的GaN薄膜厚度的精确测量. 物理学报,
2008, 57(11): 7119-7125.
doi: 10.7498/aps.57.7119
|
[4] |
王振宁, 江美福, 宁兆元, 朱 丽. 磁控共溅射法制备的Zn2GeO4多晶薄膜结构及其光致发光研究. 物理学报,
2008, 57(10): 6507-6512.
doi: 10.7498/aps.57.6507
|
[5] |
薛建明, 二宫咎, 今西信嗣. MeV Si离子轰击SiO2溅射行为研究. 物理学报,
2004, 53(5): 1445-1449.
doi: 10.7498/aps.53.1445
|
[6] |
丁瑞钦, 王浩, 于英敏, 王宁娟, 佘卫龙, 李润华, 丘志仁, 罗莉, 蔡志岗, W Y Cheung, S P Wong. 射频磁控共溅射GaAs/SiO2纳米颗粒镶嵌薄膜的光学性质. 物理学报,
2002, 51(4): 882-888.
doi: 10.7498/aps.51.882
|
[7] |
刘丰珍, 朱美芳, 刘涛, 李秉程. 共溅射和离子注入制备的SiO2(Eu)薄膜中Eu3+到Eu2+的转变. 物理学报,
2001, 50(3): 532-535.
doi: 10.7498/aps.50.532
|
[8] |
徐政, 赵小如, 吴文彬, 孙学峰, 汪良斌, 周贵恩, 李晓光, 张裕恒. Bi2Sr2CaCu2Oy单晶调制结构的X射线衍射研究. 物理学报,
1996, 45(9): 1578-1585.
doi: 10.7498/aps.45.1578
|
[9] |
许强, 王建宝, 袁健, 陆昉, 孙恒慧. 重掺硼快速退火分子束外延硅的X射线衍射研究. 物理学报,
1995, 44(3): 432-438.
doi: 10.7498/aps.44.432
|
[10] |
王建平, 罗河烈. Fe-SiO_2和Fe_(20)Ni_(80)-SiO_2粒状固体矫顽力的研究. 物理学报,
1995, 44(12): 2000-2006.
doi: 10.7498/aps.44.2000
|
[11] |
汪卫华, 白海洋, 陈红, 张云, 王文魁. Ni在非晶Si中扩散机制的原位X射线衍射研究. 物理学报,
1993, 42(9): 1505-1509.
doi: 10.7498/aps.42.1505
|
[12] |
李超荣, 麦振洪, P. D. HATTON, C. H. DU. X射线三晶衍射研究YBa2Cu3Oy超导薄膜. 物理学报,
1993, 42(9): 1479-1484.
doi: 10.7498/aps.42.1479
|
[13] |
田亮光, 朱南昌, 陈京一, 李润身, 许顺生, 周国良. 高完整GexSi1-x/Si应变超晶格的X射线双晶衍射研究. 物理学报,
1991, 40(3): 441-448.
doi: 10.7498/aps.40.441
|
[14] |
麦振洪, 崔树范, 王超英, 吴兰生. AlGaAs/GaAs波导薄膜X射线双晶衍射研究. 物理学报,
1991, 40(6): 969-977.
doi: 10.7498/aps.40.969
|
[15] |
张建中, 曹嬿妮. 发散X射线晶体衍射模拟研究. 物理学报,
1990, 39(1): 124-128.
doi: 10.7498/aps.39.124
|
[16] |
卢江, 吴自勤. Si-W/Si/SiO2/Si(100)的横截面电子显微镜研究. 物理学报,
1989, 38(6): 981-986.
doi: 10.7498/aps.38.981
|
[17] |
马德录, 尚德颖, 于锦华. X射线衍射研究N2+注入Si. 物理学报,
1989, 38(4): 579-585.
doi: 10.7498/aps.38.579
|
[18] |
姜晓明, 蒋最敏, 刘文汉, 吴自勤. 退火对W/C周期性多层膜X射线衍射性能的影响. 物理学报,
1988, 37(11): 1893-1899.
doi: 10.7498/aps.37.1893
|
[19] |
齐鸣, 罗晋生. NH3退火热氮化SiO2薄膜及其与Si界面特性的研究. 物理学报,
1988, 37(10): 1600-1606.
doi: 10.7498/aps.37.1600
|
[20] |
李思渊, 张同军, 王毓珍, 李寿嵩, 殷之平. 无金和掺金Si-SiO2界面的氧退火特性. 物理学报,
1985, 34(6): 715-724.
doi: 10.7498/aps.34.715
|