搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

用氢钝化Si(100)面抑制分子束处延界面的硼尖峰

卫星 龚大卫 杨小平 吕宏强 崔堑 盛篪 张翔九 王迅 王勤华 陆昉 孙恒慧

引用本文:
Citation:

用氢钝化Si(100)面抑制分子束处延界面的硼尖峰

卫星, 龚大卫, 杨小平, 吕宏强, 崔堑, 盛篪, 张翔九, 王迅, 王勤华, 陆昉, 孙恒慧

ELIMINATION OF INTERFACIAL BORON SPIKES IN Si MOLECULAR BEAM EPITAXY BY HYDROGEN PASSIVATION TREATMENT OF Si (100) SUBSTRATE

WEI XING, GONG DA-WEI, YANG XIAO-PING, LU HONG-QIANG, CUI QIAN, SHENG CHI, ZHANG XIANG-JIU, WANG XUN, WANG QIN-HUA, LU FANG, SUN HENG-HUI
PDF
导出引用
计量
  • 文章访问数:  6333
  • PDF下载量:  562
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  1993-01-11
  • 刊出日期:  1993-06-05

/

返回文章
返回