搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

多层溅射制备Wsix/Si薄膜的电阻率特性研究

王晓平 赵特秀 刘宏图 施一生 翁惠民 郭学哲

引用本文:
Citation:

多层溅射制备Wsix/Si薄膜的电阻率特性研究

王晓平, 赵特秀, 刘宏图, 施一生, 翁惠民, 郭学哲

ELECTRICAL PROPERTIES OF WSix/Si(111)FILMS BY MULTILAYER SPUTTERING

WANG XIAO-PING, ZHAO TE-XIU, LIU HONG-TU, SHI YI-SHENG, WENG HUI-MIN, GUO XUE-ZHE
PDF
导出引用
计量
  • 文章访问数:  6968
  • PDF下载量:  586
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  1993-06-16
  • 刊出日期:  1994-05-20

/

返回文章
返回