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高能电子衍射研究H钝化偏角Si衬底上Si,GexSi1-x的分子束外延生长模式

崔堑 黄绮 陈弘 周均铭

引用本文:
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高能电子衍射研究H钝化偏角Si衬底上Si,GexSi1-x的分子束外延生长模式

崔堑, 黄绮, 陈弘, 周均铭

Si AND GexSi1-x GROWTH MODE STUDY BY RHEED ON H-TERMINATED VICINAL Si SUBSTRATE

GUI QIAN, HUANG QI, CHEN HONG, ZHOU JUN-MING
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出版历程
  • 收稿日期:  1994-12-14
  • 刊出日期:  1996-02-05

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