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多孔硅的一种新的后处理方法──微波等离子体辅助钝化处理

刘小兵 熊祖洪 袁帅 廖良生 何钧 曹先安 缪熙月 丁训民 侯晓远

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多孔硅的一种新的后处理方法──微波等离子体辅助钝化处理

刘小兵, 熊祖洪, 袁帅, 廖良生, 何钧, 曹先安, 缪熙月, 丁训民, 侯晓远

A NEW METHOD FOR POST TREATMENT OF POROUS SILICON:SULFUR PASSIVATION BY MICROWAVE PLASMA ASSISTANCE

LIU XIAO-BING, XIONG ZU-HONG, YUAN SHUAI, LIAO LIANG-SHENG, HE JUN, CAO XIAN-AN, MIAO XI-YUE, DING XUN-MIN, HOU XIAO-YUAN
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出版历程
  • 收稿日期:  1997-01-14
  • 修回日期:  1997-03-11
  • 刊出日期:  1997-05-05

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