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小角x射线散射确定TiNi薄膜中晶化粒子的长大激活能

物理学报, 2002, 51(9): 2086-2089.
DOI: 10.7498/aps.51.2086
CSTR: 32037.14.aps.51.2086

Acta Phys. Sin., 2002, 51(9): 2086-2089.
DOI: 10.7498/aps.51.2086
CSTR: 32037.14.aps.51.2086
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  • 摘要

    用小角x射线散射技术研究以直流磁控溅射方法制备TiNi合金薄膜其退火生成的晶化粒子的长大行为.发现在室温下溅射的TiNi合金薄膜存在小于1nm尺寸的微空洞,将退火后薄膜的小角x射线散射强度扣除退火前微空洞产生的小角x射线散射强度,用这种方法得到的散射强度遵从Porod定律;而用通常方法扣除背底得到的散射强度结果不满足Porod定律.TiNi合金薄膜在733—793K之间退火晶化粒子的长大激活能Eg=301kJmol.

     

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