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Co/Cu(111)薄膜生长和退火过程中的扩散

物理学报, 2002, 51(10): 2325-2328.
DOI: 10.7498/aps.51.2325
CSTR: 32037.14.aps.51.2325

Acta Phys. Sin., 2002, 51(10): 2325-2328.
DOI: 10.7498/aps.51.2325
CSTR: 32037.14.aps.51.2325
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  • 摘要

    利用同步辐射角分辨光电子能谱和俄歇电子能谱研究了CoCu(111)分子束外延薄膜在生长和退火过程中的电子结构.实验发现:随着Co膜厚度的增加,Cu的sdz2杂化带能级位移相应增大,证实了界面间发生了互混;退火过程中存在表面扩散,而非通过界面的体扩散.并把这两种不同过程的扩散的内在动力归结为Co的表面自由能显著大于Cu的表面自由能

     

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