掺杂浓度对硅锥阴极特性的影响

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掺杂浓度对硅锥阴极特性的影响

皇甫鲁江 , 朱长纯 , 淮永进

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掺杂浓度对硅锥阴极特性的影响

皇甫鲁江, 朱长纯, 淮永进

物理学报, 2002, 51(2): 382-388.

doi: 10.7498/aps.51.382

Acta Phys. Sin., 2002, 51(2): 382-388.

doi: 10.7498/aps.51.382

摘要
基于漂移扩散模型和量子理论中的WKB方法,用数值模拟方法分析了材料掺杂浓度对硅锥阴极场致发射特性及工作状态的影响,结果表明,硅锥阴极单纯的场致发射IemitE特性受硅材料掺杂浓度的影响很小.但低掺杂硅锥阴极顶端的电位随发射电流增大而明显上升.锥体上电位变化可以等效为一个与锥体形状与掺杂相关的串联电阻的作用,这一电阻对单尖发射电流有负反馈作用.另外,在常规的工作状态下,硅锥阴级的温升并不严重.这些结果可以作为硅锥阴极设计的参考.

关键词:
硅 /

掺杂 /

场致发射
Abstract
Keywords:
/

/
作者及机构信息
皇甫鲁江²,

朱长纯²,

淮永进¹

(1)北京东方电子集团,北京100016; (2)西安交通大学,电子与信息工程学院,西安710049

基金项目: 国家自然科学基金资助的课题
Authors and contacts
(1)北京东方电子集团,北京100016; (2)西安交通大学,电子与信息工程学院,西安710049
参考文献

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第51卷，第2期 - 2002年01月20日

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