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AlN在AlN/VN纳米多层膜中的相转变及其对薄膜力学性能的影响

劳技军 胡晓萍 虞晓江 李戈扬 顾明元

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AlN在AlN/VN纳米多层膜中的相转变及其对薄膜力学性能的影响

劳技军, 胡晓萍, 虞晓江, 李戈扬, 顾明元

Phase transformation of AlN in AlN/VN nanomultilayers and its effect on the mech anical properties of films

Lao Ji-Jun, Hu Xiao-Ping, Yu Xiao-Jiang, Li Ge-Yang, Gu Ming-Yuan
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出版历程
  • 收稿日期:  2002-11-28
  • 修回日期:  2003-01-14
  • 刊出日期:  2003-09-20

AlN在AlN/VN纳米多层膜中的相转变及其对薄膜力学性能的影响

  • 1. 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室,上海 200030

摘要: 采用反应磁控溅射制备了AlN/VN纳米多层膜.研究了多层膜调制周期对AlN生长结构的影响以 及纳米多层膜的力学性能.结果表明:小周期多层膜中的AlN以亚稳的立方相(c-AlN)存在并 与VN形成共格外延生长的超晶格.薄膜产生硬度和弹性模量升高的超硬效应.大调制周期下, AlN从立方结构转变为稳定的六方相(h-AlN),并使多层膜形成纳米晶的“砖墙”型结构. 讨论认为VN的模板作用有利于c-AlN的生长,但不能显著提高其临界厚度.

English Abstract

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