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用SiCl4-H2低温沉积多晶硅薄膜微结构的Raman分析

林璇英 黄创君 林揆训 余运鹏 余楚迎 黄 锐

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用SiCl4-H2低温沉积多晶硅薄膜微结构的Raman分析

林璇英, 黄创君, 林揆训, 余运鹏, 余楚迎, 黄 锐

Raman analysis of microstructure of polycrystalline silicon films deposited at low-temperatures from SiCl4-H2

Lin Xuan-Ying, Huang Chuang-Jun, Lin Kui-Xun, Yu Yun-Peng, Yu Chu-Ying, Huang Rui
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出版历程
  • 刊出日期:  2005-04-29

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