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电子束蒸发制备HfO2高k薄膜的结构特性

阎志军 王印月 徐 闰 蒋最敏

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电子束蒸发制备HfO2高k薄膜的结构特性

阎志军, 王印月, 徐 闰, 蒋最敏

Structural characteristics of HfO2 films grown by e-beam evaporation

Yan Zhi-Jun, Wang Yin-Yue, Xu Run, Jiang Zui-Min
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出版历程
  • 收稿日期:  2003-08-15
  • 修回日期:  2003-12-09
  • 刊出日期:  2004-04-05

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