搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

电子束蒸发制备HfO2高k薄膜的结构特性

阎志军 王印月 徐 闰 蒋最敏

引用本文:
Citation:

电子束蒸发制备HfO2高k薄膜的结构特性

阎志军, 王印月, 徐 闰, 蒋最敏

Structural characteristics of HfO2 films grown by e-beam evaporation

Yan Zhi-Jun, Wang Yin-Yue, Xu Run, Jiang Zui-Min
PDF
导出引用
计量
  • 文章访问数:  8628
  • PDF下载量:  1519
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2003-08-15
  • 修回日期:  2003-12-09
  • 刊出日期:  2004-04-05

/

返回文章
返回