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x射线磁性圆二色吸收谱分析Co膜厚度对原子磁矩和自旋磁矩的影响

王 劼 李红红 李锐鹏 郭玉献 王雅新

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x射线磁性圆二色吸收谱分析Co膜厚度对原子磁矩和自旋磁矩的影响

王 劼, 李红红, 李锐鹏, 郭玉献, 王雅新

Research on the effects of thickness of cobalt layers on the orbital and spin moments of Co atoms using x-ray magnetic circular dichroism in absorption

Wang Jie, Li Hong-Hong, Li Rui-Peng, Guo Yu-Xian, Wang Ya-Xin
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  • 利用软x射线磁性圆二色吸收谱(XMCD)研究了Si衬底上沉积的不同厚度的Co膜的轨道磁矩和 自旋磁矩.样品是磁控溅射方法制备的,膜的厚度分别是2nm,10nm和30nm,并在表面覆盖0.8 —1nm厚的金膜防止样品的氧化.根据XMCD求和定则计算得到的轨道磁矩和自旋磁矩分别是0. 249—0.195μB(玻尔磁子)和1.230—1.734μB.随着膜厚的减小,C o原子的轨道磁矩增加,而自旋磁矩下降.轨道磁矩与总磁矩的比值由0.101上升至0.168,即 2nm膜中Co原子的轨道磁矩对总磁矩的贡献比30nm膜中Co原子的大了83%.
    Orbital and spin moments of Co atoms in films of different thickness deposited by magnetron-sputtering on silicon wafers have been investigated by use of soft x -ray magnetic circular dichroism in absorption. Layers with thickness 2nm, 10nm and 30nm are covered by 0.8—1nm of protection overlayer. Orbital and spin momen ts of 0.249—0.195μB and 1.230—1.734μB are found from X MCD sum rules. Increase in orbital moments and decrease in spin moments are obse rved with reducing cobalt film thickness. There is a ratio variation from 0.101 to 0.168 of orbital moment to total moment, that is, contribution of orbital mom ent of cobalt atoms to total moment in 2nm film is 83% greater than that in the 30nm film.
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出版历程
  • 收稿日期:  2005-01-27
  • 修回日期:  2005-04-18
  • 刊出日期:  2005-11-20

x射线磁性圆二色吸收谱分析Co膜厚度对原子磁矩和自旋磁矩的影响

  • 1. (1)南京大学物理系,南京 210093; (2)中国科学技术大学国家同步辐射实验室,合肥 230029

摘要: 利用软x射线磁性圆二色吸收谱(XMCD)研究了Si衬底上沉积的不同厚度的Co膜的轨道磁矩和 自旋磁矩.样品是磁控溅射方法制备的,膜的厚度分别是2nm,10nm和30nm,并在表面覆盖0.8 —1nm厚的金膜防止样品的氧化.根据XMCD求和定则计算得到的轨道磁矩和自旋磁矩分别是0. 249—0.195μB(玻尔磁子)和1.230—1.734μB.随着膜厚的减小,C o原子的轨道磁矩增加,而自旋磁矩下降.轨道磁矩与总磁矩的比值由0.101上升至0.168,即 2nm膜中Co原子的轨道磁矩对总磁矩的贡献比30nm膜中Co原子的大了83%.

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