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Si基铁电Bi3.15Nd0.85Ti3O12多层薄膜的一致取向生长和性能的研究

李少珍 李美亚 徐文广 魏建华 赵兴中

引用本文:
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Si基铁电Bi3.15Nd0.85Ti3O12多层薄膜的一致取向生长和性能的研究

李少珍, 李美亚, 徐文广, 魏建华, 赵兴中

Growth and properties of the c-axis oriented Bi3.15Nd0.75 Ti3O12 ferroelectric multi-layer thin films on silicon substrates

Li Shao-Zhen, Li Mei-Ya, Xu Wen-Guang, Wei Jian-Hua, Zhao Xing-Zhong
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出版历程
  • 收稿日期:  2005-07-03
  • 修回日期:  2005-09-11
  • 刊出日期:  2006-03-20

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